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首页 包含"光刻机"标签的文章
金额1.1亿元 一台光刻机成功中标:分辨率低于110nm

金额1.1亿元 一台光刻机成功中标:分辨率低于110nm

12月25日,国产光刻机领域再传新动态,引发广泛关注。在中国政府采购网发布的编号为zycgr22011903的采购公告中显示,科学技术部采用单一来源方式,采购一台步进扫描式光刻机,中标金额达1.099...

奈飞网 2025-12-26 6 #光刻机

Intel 18A芯片厂揭秘:已有4台EUV光刻机 月产4万片晶圆

Intel 18A芯片厂揭秘:已有4台EUV光刻机 月产4万片晶圆

12月25日最新消息,Intel近期正式推出18A制程工艺,该节点被视作其“四年五制程”战略中承上启下的核心环节——尤其在20A工艺已宣布取消的背景下,18A的重要性进一步凸显。若沿用传统等效纳米命名...

奈飞网 2025-12-25 3 #晶圆 #光刻机 #科技新闻

上海微电子中标 1.1 亿元光刻机项目

上海微电子中标 1.1 亿元光刻机项目

12月25日最新消息,中国政府采购网当日发布公示信息显示:上海微电子装备(集团)股份有限公司(简称“上海微电子”)成功中标编号为zycgr22011903的步进扫描式光刻机采购项目,中标设备共1台,最...

奈飞网 2025-12-25 5 #光刻机 #电子信息 #投资

可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

12月18日最新消息,尽管在EUV光刻机领域已退出主流竞争,日本仍稳居全球第二大光刻设备供应国地位。近年来,多家日本企业持续加码研发可绕过EUV的新型光刻技术,其中NIL(纳米压印光刻)成为重点攻关方...

奈飞网 2025-12-19 5 #纳米 #光刻机 #科技新闻

认清事实!阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年

认清事实!阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年

12月15日消息,阿斯麦向中国出口的光刻机技术代际差距究竟有多大?据其首席执行官克里斯托夫·富凯公开表态,当前对华出口的设备,相较最先进的高数值孔径(High-NA)光刻技术,整整落后八代。近日,阿斯...

奈飞网 2025-12-15 3 #光刻机 #科技新闻

ASML遭炮轰:DUV光刻机也不能卖给中国!可能涉军

ASML遭炮轰:DUV光刻机也不能卖给中国!可能涉军

12月10日最新消息,ASML不仅被禁止向中国出口尖端的EUV光刻机,就连技术相对成熟的DUV光刻机,如今也面临日益严苛的出口限制与审查。据荷兰国家广播公司(NOS)披露,尽管ASML多次强调其销往中...

奈飞网 2025-12-14 3 #光刻机 #asml #科技新闻

世界第一芯片厂的底气:台积电买走EUV光刻机10年来一半产量

世界第一芯片厂的底气:台积电买走EUV光刻机10年来一半产量

12月8日最新消息显示,在当今全球半导体芯片制造格局中,台积电无论是在晶圆代工产能、营收规模,还是在先进制程技术落地能力上,均稳居首位,“芯片一哥”地位无可撼动。从2025年第三季度全球主要半导体企业...

奈飞网 2025-12-14 3 #光刻机 #芯片 #科技新闻

美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机

美国官方投资EUV初创企业xLight:1000W功率 4倍于ASML光刻机

12月2日最新消息,EUV光刻技术已成为5纳米及更先进制程不可或缺的核心环节。目前全球范围内,仅有荷兰ASML公司具备量产EUV光刻机的能力。而美国正加速布局该领域,不仅加大政策扶持力度,更由官方直接...

奈飞网 2025-12-03 2 #光刻机 #asml #功率 #科技新闻

国产高端光刻机实现新突破:上海芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运

国产高端光刻机实现新突破:上海芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运

近日,上海芯上微装科技股份有限公司(AMIES)宣布了一项重大进展:其自主研发的首台350nm步进光刻机(型号AST6200)已正式完成出厂调试与验收,并发往客户现场。这一里程碑事件,标志着我国在高端...

奈飞网 2025-11-26 0 #光刻机 #半导体

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